本产品由 韩国本社 生产 在安全环保的前提下，彻底清除物体表面的污物。目前广泛使用的清洗方法是紫外(uv)光清洗，它一方面能避免由于使用有机溶剂造成的污染，同时能够将清洗过程缩短。利用uv-c短波长（185nm,254nm）照射塑胶，金属，玻璃等产品表面，分解有机物的清洗作用和素材分离表面分子结合，形成氧化基降低表面胀力使涂料，镀膜材料，粘着材料等容易附着。本公司积累经验实行试验设备到生产设备的设计，制作。紫外线光照射素材表面，没有复杂的处理和温度损伤，是作业环境优越技术。 光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用，达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。工作原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物（碳化合物）的目的。在实际应用中，通常是利用一种能产生两种波长的紫外灯，这种uv灯能够产生波长为254nm、185nm的紫外光（通常185nm波长的仅为254nm波长光的20%）。根据臭氧（03）产生程度分s型，h型，l型。根据形态分为d型-直管，u型，n型，m型等。 适用范围1、lcd, pdp, oled, 半导体硅芯片，集成电路、高精度印制电路板清洗和表面改质。2、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料。3、有机玻璃，pp, pe菲林。